09.12.2003 09:27
Исследователи из корпорации IBM представили сегодня на конференции в Вашингтоне свою последнюю разработку, которая может стать основой для новой технологии производства полупроводников. В своей работе ученые использовали органические полимерные молекулы в качестве своеобразного шаблона для создания рисунка проводящего слоя при производстве микросхем флэш-памяти.
Ранее предпринимались попытки использовать органические полимерные структуры для создания микросхем, но они сводились в основном к тому, что эти молекулы были основой для получения с их помощью отрезков проводников, размеры которых были меньше, чем при использовании нынешних технологических процессов. Исследователи из IBM подошли к проблеме с другой стороны - у них органические полимеры используются в качестве шаблона, через который проходит свет в процессах фотолитографии. Тем самым удалось незначительно изменить существующий технологический процесс, что позволит в будущем сократить расходы на модернизацию производства.
Сведения о полимерах, используемых в новой технологии, представлены лишь в самом общем виде. Известно только, что применена комбинация (смесь или совместный полимер) двух хорошо известных полимеров - полистирола и полиметилметакрилата. Ученые считают, что для создания прототипа микросхемы, изготовленной по новому технологическому процессу, потребуется от трех до пяти лет.
Источник: по материалам Reuters╘.
Новая технология сварки полимеров
добавить ресурс
.gif){kind=small}
Переработка мусора:
ТБО и другие проблемы современности:
© Дизайн Студии РОМАрт, 2004.